Sistemas de depósito de capas finas por métodos químicos CVD y PECVD

Sistema CVD de grafeno

Sistema CVD de grafeno
  • Reactor de pared fría de 4 pulgadas Aixtron Black Magic Pro
  • Precursores gaseosos inyectados con un sistema difusor
  • Control de temperatura vía termopar o pirómetro óptico
  • Crecimiento en régimen de baja presión o cercano a presión atmosférica
  • Posibilidad de inducir un plasma DC o pulsado