Sistema de pulverización catódica (sputtering) mediante Magnetrón

Sistema de pulverización catódica (sputtering) mediante Magnetrón
  • Sistema de “sputtering” reactivo con magnetrón circular
  • Porta sustratos con control y medida de la temperatura hasta 950ºC
  • Porta sustratos con capacidad para muestras de hasta 7cm de diámetro (aprox. 3 pulgadas).
  • Sistema dedicado exclusivamente para la síntesis de material piezoeléctrico basado en nitruros (AlN y ScAlN)