Instituto de Sistemas Optoelectrónicos y Microtecnología
Universidad Politécnica de Madrid


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Sistema RIE (Ataque Seco)
Sistema CVD (Depósito Químico)
 

Sistema de depósito de aislantes (SixNy, SixOy) PECVD (Plasmalab µ80)
  • Plasma generado con fuente RF
  • Posibilidad de calentar los sustratos hasta 400°C
  • Gases instalados:
    • Amoniaco (NH3)
    • Silano (SiH4)
    • Hexafloruro de azufre (SF6)
    • Protóxido de nitrógeno (NO2)
    • Nitrógeno (N2)
Sistema de ataque por iones reactivos (RIE) (Plasmalab µ80)
  • Plasma generado con fuente RF
  • Bombeo con bomba turbo molecular Pfeiffer Drag TPH 2101
  • Gases instalados:
    • Tetracloruro de silicio (SiCl4)
    • Hidrógeno (H2)
    • Oxígeno (O2)
    • Argón (Ar)
    • Hexafloruro de azufre (SF6)
    • Tetrafloruro de carbono (CF4)
 

 

 

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