Instituto de Sistemas Optoelectrónicos y Microtecnología
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EQUIPO DE NANOLITOGRAFÍA (CRESTEC CABL-9500C)
Columna 50 keV
Anchura de línea mínima 10 nm
Pasos de muestreo (pixels) 18 bits
Diámetro mínimo de haz 2 nm
Mínima tensión AC 5 kV
Corriente de haz 5 pA a 100 nA
Estabilidad de la corriente de haz < 1% / 5 horas (±0.1°C)
Estabilidad de la posición del haz ±30 nm/ 5 horas
Resolución del Work stage 2 nm
Puede hacer máscaras SI
 

 
Por favor, visite la galería de imágenes para ver algunos ejemplos
 

 

 

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