Servicios

• CRECIMIENTO DE MUESTRAS
  • Depósitos en evaporadoras Joule (Au, Au, AuGe, AuZn, Ni, etc)
  • Depósitos en evaporadoras por cañón de electrones (Au, Pt, Ti, Al, etc.)
  • Depósito químico en fase de vapor (CVD) de aislantes (sistemas Si-O-N)
  • Pulverización catódica (Sputtering) de materiales magnéticcos (Fe, Ni, Co, FeNi, etc)
  • Epitaxia de haces moleculares (MBE) de semiconductores (familias AlGaInAs y AlGaInN)
  • Electrodeposición de capas de Au, Ni, CoP, etc.
  • Fabricación de puentes aéreos de contacto
• TÉCNICAS DE PROCESADO
  • Litografía
    • Nanolitografía "e-line" (resolución de línea > 10 nm)
    • Litografía electrónica (eBL) (resolución > 300 nm)
    • Fotolitografía (resolución > 1 micra)
    • Diseño máscaras ópticas
  • Tratamiento Químico, Mecánico y Térmico
    • Limpieza (orgánicos, ácidos, bases...)
    • Pulido (máquina, manual)
    • Corte de precisión
    • Ataque Seco (RIE)
    • Ataque húmedo
    • Recocido convencional
    • Recocido rápido, RTA
  • Soldadura y encapsulado
    • Soldadura con hilos a cápsula portadora
    • Encapsulado en TO-5
    • Encapsulado en TO-8
    • Otros encapsulados
• CARACTERIZACIÓN DE MUESTRAS
  • Óptica
    • Preparación de muestras para medidas a baja temperatura y a temperatura ambiente
    • Medida de Fotoluminiscencia (IR-VIS-UV), en el rango 10-300K
    • Medida de electroluminiscencia
    • Medida de FTIRS (600 nm-20 micras)
  • Optoelectrónica
    • Preparación dispositivo
    • Medida de responsividad espectral de detectores (desde 12 micras a 200 nm)
    • Medida de emisión espectral láser (desde 600 a 1700 nm)
    • Medida de emisión espectral luminiscente (desde 200 nm a 2.5 micras)
    • Medida de curvas L-I de láseres en UV-VIS-IR
  • Eléctrica y Magnética
    • Medidas de resistividad, temperatura ambiente
    • Medida de propiedades de transporte por efecto Hall, variable con la temperatura (15-300K)
    • Medida de I-V y C-V, temperatura ambiente, dependencia con la temperatura y con la frecuencia
    • Medida de ciclos de histéresis en películas delgadas
  • Estructural y Microscopía
    • Medidas de espesores de láminas y perfiles
    • Fotografía microscopio de contraste y polarización
    • Preparación de muestras para estudio SEM
    • Caracterización EDX en SEM, con referencia
    • Caracterización de superficies en SEM
    • Caracterización AFM y MFM
    • Espectro de Difracción de Rayos-X

Aquí se puede descargar el impreso de solicitud de acceso a la CT-ISOM en formato MS-Word: IMPRESO DE SOLICITUD

Acceso a la: Oferta de servicios subvencionados por el Ministerio de Educación y Ciencia